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Mari 7.1发布,带来更好的2D绘画模式与智能蒙版

Mari 7.1更新艺术图
Mari 7.1

Foundry 发布了 Mari 7.1,这是其3D纹理绘制软件的最新版本,目前处于测试阶段。

新功能包括2D绘画模式,可以在不切换到其他应用程序的情况下创建或编辑2D图像,以及用于创建纹理变体的新Switch节点。

测试版可供已付费订阅或有维护合同的现有用户使用。

新的2D绘画模式允许用户在不离开Mari的情况下编辑源图像或创建贴花

Mari 7.1的主要新特性是新增的2D绘画模式,它让用户无需打开像Photoshop这样的外部应用程序就能创建或编辑2D图像。

推荐的使用场景包括从源图像中克隆去除瑕疵,以及创建自定义贴花和污渍图。

该模式支持Mari 3D绘制工具集的关键特性,包括绘制缓冲区、节点图和层堆栈,并可通过正交视图旁边的一个新2D面板访问,从而快速在3D和2D模式之间切换。

用户可以将节点图以新的.mrimg文件格式导出到磁盘。

更新还添加了一种新的图像写入节点类型,专为2D模式设计,相当于现有的针对3D工作流的烘培点节点。

这使得用户能够将2D图像烘焙到图像管理器中,每次重新烘焙时图像会自动更新。

Node Graph更新

Mari 7.1中的其他关键更改还包括新的Switch节点。

通过选择要渲染的节点图部分,艺术家可以利用此节点创建多种纹理变体——例如干净和脏的状态——并通过UI切换按钮在它们之间进行切换。

此外,对节点图还有一些提升用户体验的改进,比如在创建新的Paint节点时可以选择常用的色板颜色。

用户可以通过新的颜色预设架将自己的自定义颜色添加到色板中。

自定义过程纹理更名为智能蒙版

另外,Mari原有的自定义过程纹理系统已被重命名为智能蒙版,“以帮助用户可视化如何在他们的项目中使用这些程序组”。

同样的术语也被Adobe的3D绘制软件Substance 3D Painter所采用。

此次更新还增加了超过50个现成的智能蒙版,用于创建纹理破碎、磨损和污渍效果,这些是由Digital Domain首席纹理艺术家Stuart Ansley创建的。

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